公司新聞

當(dāng)前位置：首頁(yè) >> 技術(shù)支持

曝光

發(fā)布時(shí)間：2014-07-27

曝光：用紫外光（UV）通過(guò)預(yù)先制作好的電極圖形掩模版

照射光刻膠表面， 使被照光刻膠層發(fā)生反應(yīng)，在涂有光刻膠

的玻璃上覆蓋光刻掩模版在紫外燈下對(duì)光刻膠進(jìn)行選擇性